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SiC碳化硅襯底研磨拋光產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱:碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產(chǎn)品特點(diǎn):Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國(guó)產(chǎn)替代
- 精密陶瓷拋光液 CMP納米級(jí)拋光液
- 吉致電子·精密陶瓷件拋光液·半導(dǎo)體拋光液
產(chǎn)品名稱:氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
產(chǎn)品特點(diǎn):適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
- 阻尼布拋光墊/碳化硅精拋墊/Politex拋光墊FUJIBO拋光墊替代
- 吉致電子拋光墊
產(chǎn)品名稱:碳化硅精拋墊/阻尼布拋光墊/絨面拋光墊
產(chǎn)品厚度:0.6mm-3mm(可定制)
產(chǎn)品直徑:φ300-φ1300mm(可定制)
產(chǎn)品特點(diǎn):Politex拋光墊FUJIBO拋光墊替代
- 半導(dǎo)體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
- 產(chǎn)品名稱:鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學(xué)配方/可定制
碳化硅襯底研磨拋光·工藝吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產(chǎn)品分類:吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導(dǎo)體晶圓拋光
產(chǎn)品名稱:碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
吉致電子針對(duì)碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號(hào)研磨液、拋光液和拋光墊(粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊)。在研磨和拋光應(yīng)用中提高碳化硅襯底表面質(zhì)量,同時(shí)顯著提高材料去除率。
產(chǎn)品工藝及用途:適用于SiC碳化硅襯底DMP和CMP工藝制程,有效提升效率以及良率,碳化硅拋光液/拋光墊實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代。
碳化硅SiC研磨工藝·粗研磨/精研磨
吉致電子SIC襯底CMP粗磨/精磨工藝:Tip1粗磨液+研磨墊,Ra可達(dá)1.22nm及以下;Tip2精磨液+研磨墊,Ra可達(dá)0.45nm及以下。
碳化硅SiC拋光工藝·粗拋光/精拋光
吉致電子SIC襯底CMP粗拋/精拋工藝:Tip3粗拋液+研磨墊,Ra可達(dá)0.13nm及以下;Tip4精拋液+精拋墊,Ra可達(dá)0.06nm及以下。
想了解更多碳化硅CMP拋光工藝參數(shù)與方案,歡迎來(lái)電咨詢
吉致電子SiC碳化硅拋光液儲(chǔ)存方法:
通風(fēng),陰涼,干燥的庫(kù)房,本品需在5-35℃儲(chǔ)存,防止陽(yáng)光直射及凍結(jié),零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。
本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備,為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案!
吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!
無(wú)錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系人:官經(jīng)理
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銷售咨詢:0510-88794006
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產(chǎn)品名稱:氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
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產(chǎn)品厚度:0.6mm-3mm(可定制)
產(chǎn)品直徑:φ300-φ1300mm(可定制)
產(chǎn)品特點(diǎn):Politex拋光墊FUJIBO拋光墊替代
- 半導(dǎo)體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
- 產(chǎn)品名稱:鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑:專利化學(xué)配方/可定制
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